రోల్డ్ కాపర్ ఫాయిల్‌ను ఎనియలింగ్ చేయడం: అధునాతన అప్లికేషన్‌ల కోసం మెరుగైన పనితీరును అన్‌లాక్ చేయడం

ఎలక్ట్రానిక్స్ తయారీ, పునరుత్పాదక శక్తి మరియు అంతరిక్షం వంటి హై-టెక్ పరిశ్రమలలో,చుట్టిన రాగి రేకుదాని అద్భుతమైన వాహకత, సున్నితత్వం మరియు మృదువైన ఉపరితలం కోసం విలువైనది. అయితే, సరైన ఎనియలింగ్ లేకుండా, చుట్టిన రాగి రేకు పని గట్టిపడటం మరియు అవశేష ఒత్తిడికి గురవుతుంది, దాని వినియోగాన్ని పరిమితం చేస్తుంది. ఎనియలింగ్ అనేది సూక్ష్మ నిర్మాణాన్ని శుద్ధి చేసే ఒక క్లిష్టమైన ప్రక్రియ.రాగి రేకు, డిమాండ్ ఉన్న అప్లికేషన్లకు దాని లక్షణాలను మెరుగుపరుస్తుంది. ఈ వ్యాసం ఎనియలింగ్ సూత్రాలు, మెటీరియల్ పనితీరుపై దాని ప్రభావం మరియు వివిధ హై-ఎండ్ ఉత్పత్తులకు దాని అనుకూలతను పరిశీలిస్తుంది.

1. అన్నేలింగ్ ప్రక్రియ: ఉన్నతమైన లక్షణాల కోసం మైక్రోస్ట్రక్చర్‌ను మార్చడం

రోలింగ్ ప్రక్రియలో, రాగి స్ఫటికాలు కుదించబడి, పొడిగించబడతాయి, డిస్లోకేషన్స్ మరియు అవశేష ఒత్తిడితో నిండిన పీచు నిర్మాణాన్ని సృష్టిస్తాయి. ఈ పని గట్టిపడటం వలన కాఠిన్యం పెరుగుతుంది, డక్టిలిటీ తగ్గుతుంది (3%-5% మాత్రమే పొడుగు), మరియు వాహకతలో స్వల్ప తగ్గుదల 98% IACS (ఇంటర్నేషనల్ అన్నేల్డ్ కాపర్ స్టాండర్డ్) కు వస్తుంది. అన్నేలింగ్ ఈ సమస్యలను నియంత్రిత "హీటింగ్-హోల్డింగ్-కూలింగ్" క్రమం ద్వారా పరిష్కరిస్తుంది:

1. తాపన దశ: దిరాగి రేకుస్వచ్ఛమైన రాగికి, పరమాణు కదలికను సక్రియం చేయడానికి, దాని పునఃస్ఫటికీకరణ ఉష్ణోగ్రతకు, సాధారణంగా 200-300°C మధ్య వేడి చేయబడుతుంది.
2. హోల్డింగ్ దశ: ఈ ఉష్ణోగ్రతను 2-4 గంటలు నిర్వహించడం వలన వక్రీకరించబడిన ధాన్యాలు కుళ్ళిపోతాయి మరియు 10-30μm పరిమాణాలతో కొత్త, సమాన ధాన్యాలు ఏర్పడతాయి.
3. శీతలీకరణ దశ: ≤5°C/నిమిషానికి నెమ్మదిగా చల్లబరిచే రేటు కొత్త ఒత్తిళ్లను ప్రవేశపెట్టకుండా నిరోధిస్తుంది.

సహాయక డేటా:

• ఎనియలింగ్ ఉష్ణోగ్రత నేరుగా ధాన్యం పరిమాణాన్ని ప్రభావితం చేస్తుంది. ఉదాహరణకు, 250°C వద్ద, సుమారు 15μm ధాన్యాలు సాధించబడతాయి, ఫలితంగా 280 MPa తన్యత బలం వస్తుంది. ఉష్ణోగ్రతను 300°Cకి పెంచడం వలన ధాన్యాలు 25μmకి పెరుగుతాయి, బలాన్ని 220 MPaకి తగ్గిస్తాయి.
• తగిన హోల్డింగ్ సమయం చాలా కీలకం. 280°C వద్ద, 3 గంటల హోల్డింగ్ 98% కంటే ఎక్కువ రీస్ఫటికీకరణను నిర్ధారిస్తుంది, ఇది ఎక్స్-రే డిఫ్రాక్షన్ విశ్లేషణ ద్వారా ధృవీకరించబడింది.

2. అధునాతన అన్నేలింగ్ పరికరాలు: ఖచ్చితత్వం మరియు ఆక్సీకరణ నివారణ

ప్రభావవంతమైన ఎనియలింగ్‌కు ఏకరీతి ఉష్ణోగ్రత పంపిణీని నిర్ధారించడానికి మరియు ఆక్సీకరణను నిరోధించడానికి ప్రత్యేకమైన గ్యాస్-రక్షిత ఫర్నేసులు అవసరం:

1. ఫర్నేస్ డిజైన్: బహుళ-జోన్ స్వతంత్ర ఉష్ణోగ్రత నియంత్రణ (ఉదా., ఆరు-జోన్ కాన్ఫిగరేషన్) రేకు వెడల్పు అంతటా ఉష్ణోగ్రత వైవిధ్యం ±1.5°C లోపల ఉండేలా చేస్తుంది.
2. రక్షణాత్మక వాతావరణం: అధిక స్వచ్ఛత కలిగిన నైట్రోజన్ (≥99.999%) లేదా నైట్రోజన్-హైడ్రోజన్ మిశ్రమాన్ని (3%-5% H₂) ప్రవేశపెట్టడం వలన ఆక్సిజన్ స్థాయిలు 5 ppm కంటే తక్కువగా ఉంటాయి, కాపర్ ఆక్సైడ్‌లు ఏర్పడకుండా నిరోధిస్తుంది (ఆక్సైడ్ పొర మందం <10 nm).
3. రవాణా వ్యవస్థ: టెన్షన్-ఫ్రీ రోలర్ ట్రాన్స్‌పోర్ట్ రేకు యొక్క ఫ్లాట్‌నెస్‌ను నిర్వహిస్తుంది. అధునాతన నిలువు ఎనియలింగ్ ఫర్నేసులు నిమిషానికి 120 మీటర్ల వేగంతో పనిచేయగలవు, ఒక్కో ఫర్నేస్ రోజువారీ సామర్థ్యం 20 టన్నులు.

కేస్ స్టడీ: నాన్-ఇనర్ట్ గ్యాస్ ఎనియలింగ్ ఫర్నేస్‌ను ఉపయోగిస్తున్న క్లయింట్ ఎర్రటి ఆక్సీకరణను అనుభవించాడురాగి రేకుఉపరితలం (50 ppm వరకు ఆక్సిజన్ కంటెంట్), ఎచింగ్ సమయంలో బర్ర్స్‌కు దారితీస్తుంది. రక్షిత వాతావరణ కొలిమికి మారడం వలన ఉపరితల కరుకుదనం (Ra) ≤0.4μm మరియు ఎచింగ్ దిగుబడి 99.6%కి మెరుగుపడింది.

3. పనితీరు మెరుగుదల: “పారిశ్రామిక ముడి పదార్థం” నుండి “క్రియాత్మక పదార్థం” వరకు

అనీల్డ్ రాగి రేకుగణనీయమైన మెరుగుదలలను ప్రదర్శిస్తుంది:

ఈ మెరుగుదలలు అనీల్డ్ రాగి రేకును వీటికి అనువైనవిగా చేస్తాయి:

1. ఫ్లెక్సిబుల్ ప్రింటెడ్ సర్క్యూట్‌లు (FPCలు): 20% కంటే ఎక్కువ పొడుగుతో, ఫాయిల్ 100,000 కంటే ఎక్కువ డైనమిక్ బెండింగ్ సైకిల్స్‌ను తట్టుకుంటుంది, మడతపెట్టగల పరికరాల డిమాండ్‌లను తీరుస్తుంది.
2. లిథియం-అయాన్ బ్యాటరీ కరెంట్ కలెక్టర్లు: మృదువైన రేకులు (HV<90) ఎలక్ట్రోడ్ పూత సమయంలో పగుళ్లను నిరోధిస్తాయి మరియు అల్ట్రా-సన్నని 6μm రేకులు ±3% లోపల బరువు స్థిరత్వాన్ని నిర్వహిస్తాయి.
3. అధిక-ఫ్రీక్వెన్సీ సబ్‌స్ట్రేట్‌లు: 0.5μm కంటే తక్కువ ఉపరితల కరుకుదనం సిగ్నల్ నష్టాన్ని తగ్గిస్తుంది, 28 GHz వద్ద చొప్పించే నష్టాన్ని 15% తగ్గిస్తుంది.
4. విద్యుదయస్కాంత కవచ పదార్థాలు: 101% IACS వాహకత 1 GHz వద్ద కనీసం 80 dB షీల్డింగ్ ప్రభావాన్ని నిర్ధారిస్తుంది.

4. సివెన్ మెటల్: అగ్రగామి పరిశ్రమ-ప్రముఖ అన్నేలింగ్ టెక్నాలజీ

సివెన్ మెటల్ ఎనియలింగ్ టెక్నాలజీలో అనేక పురోగతులను సాధించింది:

1. తెలివైన ఉష్ణోగ్రత నియంత్రణ: ఇన్‌ఫ్రారెడ్ ఫీడ్‌బ్యాక్‌తో PID అల్గారిథమ్‌లను ఉపయోగించడం, ±1°C ఉష్ణోగ్రత నియంత్రణ ఖచ్చితత్వాన్ని సాధించడం.
2. మెరుగైన సీలింగ్: డైనమిక్ ప్రెజర్ పరిహారంతో కూడిన ద్వంద్వ-పొరల ఫర్నేస్ గోడలు గ్యాస్ వినియోగాన్ని 30% తగ్గిస్తాయి.
3. ధాన్యం దిశ నియంత్రణ: గ్రేడియంట్ ఎనియలింగ్ ద్వారా, 20% వరకు స్థానికీకరించిన బలం తేడాలతో, వాటి పొడవునా వివిధ కాఠిన్యం కలిగిన రేకులను ఉత్పత్తి చేయడం, సంక్లిష్టమైన స్టాంప్ చేయబడిన భాగాలకు అనుకూలం.

ధ్రువీకరణ: CIVEN METAL యొక్క RTF-3 రివర్స్-ట్రీట్డ్ ఫాయిల్, పోస్ట్-ఎనియలింగ్, 5G బేస్ స్టేషన్ PCBలలో ఉపయోగించడానికి క్లయింట్లచే ధృవీకరించబడింది, 10 GHz వద్ద డైఎలెక్ట్రిక్ నష్టాన్ని 0.0015కి తగ్గించింది మరియు ప్రసార రేట్లను 12% పెంచింది.

5. ముగింపు: రాగి రేకు ఉత్పత్తిలో అన్నేలింగ్ యొక్క వ్యూహాత్మక ప్రాముఖ్యత

అన్నేలింగ్ అనేది "వేడి-చల్లని" ప్రక్రియ కంటే ఎక్కువ; ఇది పదార్థ శాస్త్రం మరియు ఇంజనీరింగ్ యొక్క అధునాతన ఏకీకరణ. ధాన్యం సరిహద్దులు మరియు డిస్లోకేషన్స్ వంటి సూక్ష్మ నిర్మాణ లక్షణాలను మార్చడం ద్వారా,రాగి రేకు"పని-కఠినమైన" స్థితి నుండి "క్రియాత్మక" స్థితికి పరివర్తన చెందడం, 5G కమ్యూనికేషన్లు, ఎలక్ట్రిక్ వాహనాలు మరియు ధరించగలిగే సాంకేతికతలో పురోగతికి మద్దతు ఇస్తుంది. CIVEN METAL యొక్క హైడ్రోజన్-శక్తితో పనిచేసే ఫర్నేసుల అభివృద్ధి CO₂ ఉద్గారాలను 40% తగ్గించడం వంటి ఎనియలింగ్ ప్రక్రియలు ఎక్కువ మేధస్సు మరియు స్థిరత్వం వైపు అభివృద్ధి చెందుతున్నప్పుడు, రోల్డ్ కాపర్ ఫాయిల్ అత్యాధునిక అనువర్తనాల్లో కొత్త సామర్థ్యాలను అన్‌లాక్ చేయడానికి సిద్ధంగా ఉంది.